一个月后，中微与南大光电联合实验室正式揭牌。这是星城半导体创新中心成立后的第一个重大项目，李一凡特意参加了揭牌仪式。

“这个实验室的使命很明确。”李一凡在讲话中说，“就是要通过光刻机和光刻胶的良好创新，在28nm制程上实现技术突破。这不仅关系到企业的发展，更关系到整个产业链的自主可控。”

威廉姆斯博士和王立新作为联合实验室的双主任，详细介绍了目前的研发进展。

“光学系统已经完成初步设计。”威廉姆斯调出了一组数据，“在分辨率、精度等关键指标上都达到了28nm制程的基本要求。现在的难点是稳定性，这需要配合光刻胶的特性进行优化。”

“我们也取得了重要进展。”王立新说，“最新研发的光刻胶在几个关键指标上都突破了：感光度提升了30%，线宽均匀性控制在2nm以内，这些都是达到28nm制程要求的基础。”

领导陈启明问道：“两个团队怎么配合？”

“我们采用双组长制。”威廉姆斯解释说，“每一个课题都由光刻机和光刻胶团队的专家共同负责。比如在光学系统优化时，光刻胶团队就提供了很多关键参数，帮助我们调整光路设计。”

“反过来也是。”王立新补充道，“光刻机团队的光强分配数据，指导我们优化光刻胶配方。这种良好的创新模式效果很好。”

李一凡对这种合作方式很满意。他清楚地记得以前世界上很多企业各自为战，导致技术创新效率低下。现在有了省里500亿的支持，正好可以推动产业和谐。

“人才团队组建得怎么样？”他问道。

“目前联合实验室有120人。”威廉姆斯说，“其中博士32人，包括5位海归专家。但在某些关键岗位还存在缺口，比如光学系统设计、材料界面控制等领域的高端人才。”

市委组织部长何国庆立即表态：“人才引进要特事特办。对急需的专家，可以启动‘一事一议’。待遇政策对比，关键是解决他们的后顾之忧。”

“已经在行动了。”市人社局局长杨国强说，“我们在硅谷、东京等地设立了招才引智工作站。目前正在和几位顶尖专家接洽，其中包括三名日本光刻机领域的资深工程师。”